
Ag Diamond 銀鑽石複合散熱片材料
700 W/(m·K) 高熱傳導 × 8.1 ppm/K 低熱膨脹,高功率模組散熱的新世代選擇

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晶片發熱
GaN/SiC 等高功率晶片是集中熱源,熱量經晶片接合層向下傳遞。
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快速導熱+橫向擴散
Ag Diamond 以 700 W/(m·K)(約 CuW 的 4 倍)將熱帶離晶片,並向整個底面攤開。
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低應力接合
CTE 8.1 ppm/K 與陶瓷封裝(AlN 4.9/Al₂O₃ 6.7)的硬焊接合匹配,溫度循環下不易劣化。
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導出系統
熱量傳入系統底板/散熱基座,排出至環境,完成散熱路徑。
| 材料結構 | 銀(Ag)基材+鑽石(Diamond)顆粒複合材料 |
|---|---|
| 熱傳導率 | 700 W/(m·K) |
| 熱膨脹係數(CTE) | 8.1 ppm/K(RT–800°C) |
| 平坦度(Flatness) | 14 μm(量測面積 10.4×5.6 mm) |
| 適用封裝尺寸 | 約 10×10 ~ 100×100 mm |
| 製程相容性 | 可沿用與 CuW 相同的製程;硬焊(brazing)整合 |
| 搭配陶瓷封裝 | AlN、Al2O3 等陶瓷封裝材料 |
| 產品階段 | 開發階段(受理送樣評估/設計導入洽詢) |
- 高功率模組(High Power Module)散熱
- RF/通訊基地台
- 衛星通訊
- 雷射加工設備
- 次世代 RF 與功率半導體封裝
- 熱傳導率 700 W/(m·K),約為 CuW 的 4 倍、純銅的 1.8 倍
- CTE 8.1 ppm/K(RT–800°C),與 CuW 相近,僅純銅的一半以下,顯著降低熱應力
- 平坦度 14 μm,與 CuW 同級
- 可沿用與 CuW 相同的製程與硬焊整合方式,既有產線導入門檻低
- 可與 AlN、Al2O3 陶瓷封裝硬焊整合
| 項目 | Ag Diamond | 純銅 Cu | CuW | CuMo |
|---|---|---|---|---|
| 熱傳導率 W/(m·K) | 700 | 394 | 174 | 195 |
| CTE ppm/K(RT–800°C) | 8.1 | 19.4 | 7.9 | 7.5 |
| 平坦度 | 14 μm | – | 14 μm | – |
| 對晶片熱應力 | 低 | 高 | 低 | 低 |
→ Ag Diamond 在維持與 CuW 同等級低熱膨脹係數的前提下,將熱傳導率提升至約 4 倍, 是目前散熱片材料中兼顧高導熱與低 CTE 的方案。

